阿斯麦最新声明，DUV光刻机限制出口中国

3月9日上午，阿斯麦ASML公司在一份声明中称：荷兰政府发布了有关即将出台的半导体设备出口管制措施的进一步的信息。这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统。

但ASML也表示，此次并不适用于所有浸润式DUV设备，只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统，即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。

“基于今日的公告、我们对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，我们预计这些管制措施不会对我们已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。”ASML表示，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。

3月8日，荷兰对外贸易部长施莱纳马赫在给议会的一封信函中宣布，荷兰将与美国商务部一起实施对半导体技术的出口管制。预计这一措施最快在2023年夏天之前出台。施莱纳马赫对媒体表示，新禁令下还是有许多更低端的设备可以销往中国，无需取得许可，包括制造汽车、冰箱、电话和风力发电机所需芯片的设备。

自2019年以来，ASML研发的最先进极紫外光（EUV）设备已禁止销往中国。如今限制更进一步，ASML将对华限制出口DUV光刻机等半导体技术，加上日本也会本月跟进美国新政，中国芯片制造企业将无法得到新的光刻机设备和服务，这对于中国芯片行业发展有深远影响。

光刻机在芯片制造中扮演关键角色。在半导体制造行业，DUV光刻机可以用于制造7nm及以上制程的芯片，涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片，随着先进制程向5nm及以下进化，EUV成为未来光刻技术和先进制程的核心，主要用于7nm及以下先进芯片制造工艺，荷兰ASML是唯一的供应商。

2022年10月7日，美国升级对华半导体出口管制。美国商务部BIS出口管制新规要求，美国供应商若向中国本土芯片制造商出售尖端生产设备，生产18nm或以下的DRAM芯片、128层或以上的NAND闪存芯片、14纳米或以下的逻辑芯片，必须申请许可证并将受到严格审查。而且，BIS要求限制中国工厂进口用于生产先进制程芯片所需的技术和设备，以及美国人士在中国参与先进芯片生产时需要申请许可等。

如今，美国希望与日本、荷兰等芯片产业链中的重要国家一同实施新的出口管制政策。今年1月17日，荷兰首相吕特（Mark Rutte）访美，会谈进展超出预期，据多家媒体报道，荷兰、美国的官员正在华盛顿商讨对华半导体设备出口管制。

财报显示，以客户工厂所在地区划分，中国大陆是ASML第三大市场，2022年全年为ASML贡献了29.16亿欧元的收入，占总营收的14%。除中国大陆外，中国台湾、韩国、美国、日本为前五大市场，2022年上半年贡献的营收占比分别为42%、29%、7%、4%。而此次涉及的产品占ASML营收的34%以上。

ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。

ASML不希望失去中国业务。此前ASML的CEO温彼得（Peter Wennink）就曾多次强调，DUV光刻机对中国的出口一直正常。去年10月温彼得表示，5%的未交付订单会受到影响，“我们在中国大陆的客户主要是成熟制程厂商，即便不能给中国大陆先进制程厂商供货，我们在全球其他地方的需求超过了供给。”

ASML预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右，这也意味着其销售额已经相对收缩，因为其整体销售额增长幅度可能在25%左右，而如今对于价值超过80亿欧元的DUV光刻机继续提供服务仍是一个未知数。

Liesje Schreinemacher在信函中指明了其中一项将受到影响的技术是DUV光刻机——这是ASML在销售的第二先进芯片制造设备。而此次额外的国家出口管制措施涉及半导体生产周期中非常具体的技术，荷兰在这些技术中具有独特和领先的地位。

“荷兰还与国际合作伙伴就在出口该技术时保证（国际）国家安全进行了会谈。这也表明， 一些具体的附加国家出口管制措施是必要的。由于荷兰认为出于国家和国际安全的考虑，有必要尽快控制这项技术，因此政府还将通过公共部级法规建立一个国家清单，与多边进程平行和互补。”她在信中称，额外控制措施需要经过仔细和尽可能精确的选择，以防止对产业链造成不必要的破坏，并考虑到国际公平竞争环境。虽然信函中没有过多提及荷兰的主要贸易伙伴中国和ASML，但预计两者都将受到新限制措施的影响。

ASML表示，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。尽管尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为我们在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。此外，ASML指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。最后，ASML的长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。