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应用材料公司SEMVision™ G9:引领高产能缺陷检测新时代

来源:应用材料公司 发布时间:2026-04-07 49
电子芯片半导体工艺材料/气体/化学品 电子芯片制造产业动态
在SEMICON China 2026期间,应用材料公司正式发布其全新一代平台——SEMVision G9。这款新产品将进一步提升缺陷分析能力,推动先进制程迈向更高水平。

作为业界公认的缺陷检测、分类与分析标杆产品,SEMVision 系列长期以来助力全球晶圆厂提升良率与制造效率。在SEMICON China 2026期间,应用材料公司正式发布其全新一代平台——SEMVision G9。本期博客将带你深入了解这款新产品如何进一步提升缺陷分析能力,推动先进制程迈向更高水平。

 

SEMVision G9是一款面向逻辑、存储器及其他器件的缺陷检测应用,通过更可靠的成像质量以及集成式人工智能技术,实现跨平台的缺陷检测与分类能力规模化提升,同时在保持性能扩展性的前提下,实现具有竞争力的总体拥有成本(CoO)。

 

 

Q:SEMVision G9为什么重要?

随着器件复杂度持续提升以及3D结构不断演进,缺陷分布日益密集,对缺陷检测能力带来了显著压力。

 

SEMVision G9通过在高速度下支持更多检测站点和样本数量,有效扩展检测产能预算,使工程师能够在不牺牲周期时间或总体拥有成本的前提下,实现从前道工艺(FEOL)到后道工艺(BEOL)的全层覆盖。同时,集成式AI显著减少人工参与,缩短结果获取时间,加速高置信度的量产决策。

 

Q:SEMVision G9新亮点解析

1、更强成像能力

更高的束流电流加快了图像采集速度;同时,提升的最高加速电压结合 Elluminator™ 宽角背散射电子(BSE)探测器,在深埋缺陷及高深宽比结构等具有挑战性的应用中,实现更优的图像质量。

 

2、卓越图像质量

全新升级的图像处理算法,在高噪声条件下仍可有效保留缺陷信号,带来行业领先的图像质量。

 

3、检测速度和流程升级

通过提升设备的运动控制以及减少运动中重复过程,缩短了端到端的检测时间。

 

4、专有人工智能流程

经大规模量产验证的ADR AI支持单幅图像检测和基于CAD的缺陷检测;同时,ADC AI(Purity™ III)分类引擎能提供更快速、更精准的分类结果。

 

5、延续性和兼容性

支持业界领先的SEMVision G7程式与成像参数的直接转换并使用,在不中断生产的情况下实现性能提升,并提供从G7系列到G9的完整升级路径。

 

Q:SEMVision G9的关键应用

作为缺陷检测领域的领导者,SEMVision覆盖广泛应用场景。G9在此基础上进一步引入多项独特能力,包括电子束倾斜、高景深倒角成像、适用于裸片和整片晶圆的深紫外成像、材料分析,以及Elluminator宽角BSE探测器。

 

Q:一句话总结SEMVision G9

更多晶圆、更深洞察、更少人工投入——SEMVision G9将值得信赖的成像技术与集成的人工智能相结合,以驱动更快、更可靠的生产决策。

 

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