imec引入先进EUV光刻系统，助力2nm以下芯片研发

近日，比利时先进半导体技术研究与创新中心（imec）宣布已安装ASML EXE:5200高数值孔径极紫外光刻系统，并将其描述为“当今最先进的光刻设备”。

imec在公告中表示：“这一战略里程碑进一步巩固了imec作为行业进入埃米时代引领者的地位，为其全球合作伙伴生态系统提供了无与伦比的早期机会，以获取下一代芯片微缩技术。”

该高数值孔径EUV系统直接集成了全套图形化工艺、量测工具及材料，将使imec及其合作伙伴能够获得突破2nm以下逻辑制程和高密度存储技术所需的性能，从而推动先进人工智能和高性能计算的发展。

imec宣布，全球最先进的高数值孔径EUV光刻系统ASML EXE:5200已运抵其位于鲁汶的300mm洁净室
 

开创高数值孔径EUV技术
imec首席执行官Luc Van den hove表示：“过去两年是高数值孔径（0.55 NA）EUV光刻技术发展的重要篇章，imec与ASML携手生态系统合作伙伴，在其位于费尔德霍芬的联合实验室共同开创了高数值孔径EUV技术。如今将EXE:5200高数值孔径EUV光刻系统安装到我们位于鲁汶的300mm洁净室中，我们旨在将这些图形化技术提升至产业级规模。”

“该系统无与伦比的分辨率、改进的套刻精度、高产能，以及新的晶圆存储库（可提升工艺稳定性和吞吐量），将为我们的合作伙伴在加速开发2nm以下芯片技术方面提供决定性优势。随着行业迈入埃米时代，高数值孔径EUV将成为一项基石能力，imec很荣幸通过为合作伙伴提供最早、最全面的技术获取途径来引领这一进程。”

这一成就是imec与ASML五年战略合作伙伴关系的关键组成部分，该合作得到了欧盟（通过芯片联合体及欧洲共同利益重要项目）、比利时弗兰德政府及荷兰政府的支持。Van den补充道：“作为欧盟资助的NanoIC试点生产线的核心组成部分，该设备将在未来几十年为巩固欧洲作为先进半导体研发领导者的地位发挥关键作用。”

Van den表示：“将这一新型光刻系统引入imec的洁净室，使该研究中心成为一个先进图形化工艺的综合开发环境。imec与芯片制造商、设备、材料及光刻胶供应商、掩模公司以及量测专家的生态系统合作，将使我们能够加速学习周期，为下一代逻辑和存储器件技术开发尖端的图形化工艺。”

ASML首席执行官Christophe Fouquet评论道：“imec安装EXE:5200系统标志着向埃米时代迈出了重要一步。我们正携手加速高数值孔径EUV技术的可扩展性，以支持下一代先进存储和计算技术的发展。”