2025年本田奖授予日本VCSEL先驱伊贺健一

本田基金会于近日宣布，将2025年度“本田奖”（Honda Prize）授予东京科学大学名誉教授、东京工业大学前校长伊贺健一博士。这一国际科学技术奖项旨在表彰伊贺博士在垂直腔面发射激光器（VCSEL）领域的开创性构想，及其对相关研究与应用发展的重大贡献。

本田奖设立于1980年，是表彰科学技术领域成就的重要国际奖项，其评选范围涵盖从科学发现、技术发明到实际应用及推广的全过程。第46届本田奖将授予伊贺健一博士，以表彰他于1977年提出VCSEL概念，并为该技术的发展及实际应用做出的先驱性贡献。

伊贺健一博士

今年的颁奖典礼将于11月17日在东京帝国饭店举行。除奖章和证书外，伊贺博士还将获得1000万日元（约6.8万美元）奖金。

与传统边发射激光器相比，采用垂直谐振腔的VCSEL具有更紧凑的结构，可实现高密度集成、稳定的单波长振荡、大规模生产、连续波长调谐和低功耗等优势。这些特性推动了光电领域的多项革新，广泛应用于高速数据通信、光纤通信、3D人脸识别、电脑鼠标及自动驾驶汽车激光雷达系统等领域。

当伊贺博士首次提出VCSEL概念时，由于技术可行性存疑，学术界和工业界均持怀疑态度。但通过持续研究与不懈推广，伊贺团队逐渐使这项创新技术获得了全球认可。

1988年，其合作者、时任东京工业大学（现东京科学大学）教授的小山二三夫博士实现了VCSEL的首次室温连续波运作，这成为该技术走向商业化的重要转折点。自1990年代末起，VCSEL在全球范围内实现产业化，彻底改变了现代光电子技术格局并重塑了众多行业生态。

亚洲VCSEL代工厂选择Eulitha光刻设备
相关消息显示，先进光刻解决方案供应商Eulitha宣布，多家亚洲VCSEL代工厂已采用其深紫外（DUV）光刻平台进行6英寸晶圆生产。该公司近期已出货多套系统，以满足激光雷达、3D传感、数据中心和光通信应用对VCSEL快速增长的需求。

Eulitha平台采用专有的非接触式光学光刻技术——位移塔尔博特光刻（DTL），可实现多种特性。其高分辨率精密图案化技术适用于先进VCSEL阵列，而DTL的大曝光场可单次覆盖整个6英寸晶圆，减少拼接误差并提高均匀性。

Eulitha面向6英寸晶圆生产的深紫外光刻平台

在9月10日至12日举行的2025年中国国际光电博览会（CIOE 2025）上参展，并就“半导体激光器生产中的高分辨率创新光学光刻技术”进行主题演讲。Eulitha强调，其技术的采用标志着制造商战略转型的开始，他们正寻求以成本优势满足日益增长的高分辨率图案化需求，这一需求在VCSEL设计日趋复杂的背景下尤为突出。

需求持续增长
Eulitha表示：VCSEL技术正迎来全球性增长，这得益于其在自动驾驶汽车高性能激光雷达系统、消费电子产品3D面部识别以及数据中心高效光互连等领域的关键作用。此外，偏振传感——这种通过特殊结构VCSEL实现的新兴技术——为生物识别和工业传感提供了更高的精度与对比度，进一步推动创新与市场扩张。