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随着半导体器件特征尺寸不断微缩,传统光学检测正面临前所未有的精度挑战,一双更敏锐的“眼睛”已成为突破检测瓶颈的关键。
这一需求正推动科学相机从传统的“成像工具”演进为具备精确测量能力的核心器件——它不仅成像,更能对光子的物理特性、数量及时空分布进行精准量化,因此被誉为“光子的度量衡器”。
在半导体检测中,科学相机展现出广泛的应用潜力,其响应波长覆盖从紫外到可见光的广阔波段,能够满足多种高精度检测场景的需求:
193nm/266nm/355nm:晶圆及掩膜版缺陷检测
200~400nm:晶圆工艺过程监控
400~700nm:材料研究、生物医疗及工业应用
700~1100nm:新一代半导体材料研究以及缺陷检测
不同波段、不同场景对相机的性能要求各不相同。半导体缺陷检测的核心难点在于信号的极微弱性与超高精度要求。
检测工程师常常提出:“能否区分1个DN(数字值)的缺陷信号差异?”在实际应用中,缺陷信号的强度起伏往往仅在数个DN之间,故任何微小的信号波动或图像噪声都可能导致真实缺陷被淹没、造成漏检。正因如此,科学相机必须在极限条件下仍保持卓越的精度与可靠性。
Part 1
应对纳米级缺陷检测的核心技术要素
1. 高量子效率(QE):提升弱光信号捕获能力
QE(量子效率)指光子转换为电子的效率,直接决定信号强度。鑫图光电于2015年全球首创峰值QE达95%的背照式sCMOS相机,通过背照式堆叠结构与优化镀膜工艺,有效抑制像素串扰,在可见光区实现95% QE,在266nm深紫外波段仍保持近60% QE,显著提升光子捕获能力,确保缺陷边界清晰成像。
图1:鑫图光电Gemini 8KTDI 量子效率
2. 超低读出噪声:保障信号纯净与精准识别
读出噪声是相机读取信号时引入的本底噪声,直接影响对弱光子信号的识别能力。鑫图通过高转换增益设计与多重采样技术,将读出噪声降低至0.4 e⁻,处于行业领先。
同时,结合像素级 PRNU(像素响应均匀性)与 DSNU(暗信号非均匀性)校正算法,消除像素响应差异导致的信号波动,确保微小缺陷信号能被精准识别。
3.超低暗电流噪声:稳定的温度控制
暗电流噪声受温度影响——温度升高6℃可直接导致暗电流值翻倍。鑫图依托18 年技术积累,开发先进制冷结构与PID温控系统,将工作温度稳定控制在最佳区间,同时确保长时间运行中依然保持低噪声和高可靠性,适应不同设备环境需求。
4.光刻级洁净度与可靠性
晶圆厂对洁净度要求极为严苛,微小颗粒即可能导致器件失效。鑫图全线产品贯彻高级别的洁净标准,制造与调试环境可满足光刻机配套要求,从根本上杜绝因污染引起的设备异常或检测误差,确保相机在纳米级检测中持续稳定运行。
图2:鑫图光电高标准生产制造车间
Part 2
鑫图产品线:全面覆盖半导体检测场景
目前,鑫图产品稳定运行于国内主流晶圆厂商,在半导体检测领域有大批量出货与稳定应用经验,覆盖晶圆检测、掩膜检测、三代半导体缺陷检测、后道封测等全流程环节。
图3-5:鑫图光电半导体检测代表性产品
Part 3
从产品到生态:推动国产检测技术自主化
随着半导体制造持续迈向纳米尺度,检测精度已成为决定良率的关键。鑫图光电以科学相机为核心,通过在高QE、低噪声、深制冷及高标准制造等方面的持续升级,突破了传统检测手段的局限,在半导体制程检测建立了扎实的应用基础。
鑫图光电福州总部 图片来源 / 鑫图光电
更重要的是,这种突破并非孤立存在,而是通过上下游协同、产业链共建,推动着中国自主的半导体检测生态。
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