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SiC激光剥离技术新进展,单片成本降低约26%

来源:大半导体产业网 发布时间:2025-07-14 69
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深圳平湖实验室使用国产的全自动化激光剥离系统,2025年6月实现SiC激光剥离的单片总损耗≤75μm,单片成本降低约26%,达到国际先进水平。

自深圳平湖实验室官微获悉,近日,深圳平湖实验室使用国产的全自动化激光剥离系统,对激光剥离的机理进行深入研究、系统优化激光剥离工艺参数,2025年6月实现SiC激光剥离的单片总损耗≤75μm,单片成本降低约26%,达到国际先进水平,已完成三批次的小批量验证,良率100%。

 

上述成果核心性能指标达到国际先进水平,在关键技术及设备上实现了自主可控,保障了供应链安全,降低了对外依赖风险,工艺成熟可靠,可快速实现产业化。

 

据悉,SiC单晶材料的高硬度、极高脆性、高化学稳定性等特性导致其极难加工,行业主流采用多线切割技术进行SiC衬底的切割加工,单片总材料损耗在280-300 μm,而6inch的SiC衬底成品厚度在350um左右,相当于材料损耗率在46%左右。深圳平湖实验室聚焦SiC激光剥离新技术的研究与开发,旨在大幅降低碳化硅衬底的切割损耗,从而降低碳化硅衬底的成本,促进大尺寸SiC衬底规模化产业应用。

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