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荣格工业-圣德科

Maxwell实验室获军方资助,研发激光辅助GPU散热技术

来源:Ringier 发布时间:2025-06-30 54
工业激光激光设备零部件光学材料与元件 技术前沿应用及案例产业动态
Maxwell的冷却技术原理是,特定波长激光照射超纯砷化镓半导体(作为冷板)时,利用砷化镓的高电子迁移率特性实现芯片热点精准散热。超薄砷化镓组件被置于发热区域,通过微结构引导激光实现局部冷却,该技术可作为传统冷却系统的补充方案。

近日,开发创新型激光-砷化镓半导体冷却技术的初创企业Maxwell实验室,通过美国政府资助项目获得50万美元拨款,用于开发并演示先进芯片冷却方案。该计划由美国陆军研究部、圣托马斯大学与高能技术中心联合推动。

 

 

资金来源于“基础能源科学转化计划”下属的圣托马斯应用可再生能源技术项目,旨在加速满足军事需求的能源技术开发。Maxwell的技术核心在于利用超纯砷化镓半导体与激光构成的固态平台,为高性能计算系统散热。其创新点在于可精准消除处理器内部热点——这是传统散热器无法实现的突破,有望持续提升AI与高性能计算芯片的功耗表现。但目前,这项技术尚未达到可以实现商用化应用的成熟度。

 

根据协议条款,Maxwell将与圣托马斯大学合作,使用该校先进制造中心与微电网研究中心等顶级实验室资源。工程专业学生也将参与涉及光纤激光器、光学冷却及仿真系统分析的应用研究。初期开发将聚焦于构建采用“砷化镓半导体+激光”冷却系统的概念验证GPU集群。

 

未来数据中心需要大型电力网络做支撑的同时,高效冷却系统也是必要条件

 

Maxwell的冷却技术原理是,特定波长激光照射超纯砷化镓半导体(作为冷板)时,利用砷化镓的高电子迁移率特性实现芯片热点精准散热。超薄砷化镓组件被置于发热区域,通过微结构引导激光实现局部冷却,该技术可作为传统冷却系统的补充方案。

 

但该技术面临显著成本与制造壁垒,生产无缺陷砷化镓层需采用分子束外延或MOCVD等高能耗工艺,导致200毫米砷化镓晶圆成本高达约5000美元(硅晶圆仅5美元)。此外,砷化镓无法直接集成至硅芯片,必须依赖3D堆叠或晶圆键合等硅光子学中的昂贵集成技术。

 

Maxwell实验室认为该技术兼具民用与国防应用潜力。民用领域包括AI/HPC集群与高频交易系统;国防领域涵盖边缘计算、先进传感器、航空航天设备等。

 

“我们非常荣幸能与圣托马斯大学、陆军DEVCOM研究实验室及ETC建立战略合作,并利用BEST START项目的资源与专业知识,”Maxwell实验室联合创始人兼增长总监Mike Karpe表示,“此次合作将加速激光冷却系统的开发与实地验证,推动第一代激光冷却技术向规模化商用迈进。”

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