简讯┃ASML：两款DUV光刻机出货许可证被吊销

ASML在其官网发布《关于部分吊销出口许可证的声明》，或影响中国的少数客户。

来源 /   ASML官网

作者 /  荣格电子芯片综合整理

1月2日消息，ASML在其官网发布《关于部分吊销出口许可证的声明》（如图所示），全文译文如下：

 图片来源：ASML官网

“荷兰政府最近部分吊销了NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的2023年出货许可证，影响了中国的少数客户。

我们预计目前撤销出口许可证或最新的美国出口管制限制不会对我们2023年的财务前景产生重大影响。

在最近与美国政府的讨论中，ASML进一步澄清了美国出口管制法规的范围和影响。最新的美国出口规则（2023年10月17日发布）对有限数量的先进生产设施的某些关键 DUV 浸没式光刻系统施加了限制。

ASML完全致力于遵守所有适用的法律和法规，包括我们经营所在国家的出口管制立法。”

根据ASML官网信息，该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有三款，分别是：

TWINSCAN NXT:1980Di；

TWINSCAN NXT:2000i；

TWINSCAN NXT:2050i。

DUV光刻机被用于生产28nm及更成熟制程的芯片，理论上最高能制备7nm，主要供应商有荷兰ASML、日本尼康、日本佳能等。

而ASML本次声明中提及的两款产品之一，TWINSCAN NXT:2050i是一款高生产率、双级浸没式光刻工具，专为在先进节点批量生产300mm晶圆而设计。

另一款NXT:2100i是双级浸没式光刻系统，其配备了新的投影光学调整系统，可改善覆盖效果。