OpenLight Photonics发布工艺设计套件，可简化端到端的光子集成电路设计

近日，总部位于美国加州戈莱塔的OpenLight Photonics宣布其工艺设计套件（PDK）正式上市。该工艺设计套件可以简化端到端的光子集成电路（PIC）设计，并满足数据通信、电信、LiDAR、医疗保健、HPC、AI和光计算等应用的未来需求。

Openlight正在打造世界上首个开放市场的硅光子学平台

Tower Semiconductor模拟业务部高级副总裁兼总经理Marco Racanelli博士表示，现在有了PDK，共同客户可以通过开放的铸造模型获得这一先进技术。迄今为止制造的PIC令人印象深刻。PDK将加快业界进一步创新，设计师们也可以更有信心开发新产品，通过片上激光器和光放大器更快地将其推向市场。

Synopsys通过Synopsys OptoCompiler支持OpenLight的PDK，弥补了光子专家和IC设计师之间的差距，使光子设计与电子设计一样高效。Synopsys OptoCompiler是一款针对光子集成电路的完整端到端设计、验证和签准解决方案。该解决方案将光子设计的特定功能与经过行业验证的电子设计方法结合在统一平台中，使光子IC设计变得容易、快速和灵活。

Synopsys工程副总裁Aveek Sarkar表示：“Synopsys业界领先的光子IC设计解决方案和OpenLight集成激光技术在一个具有凝聚力的平台中的结合，使团队能够以前所未有的方式设计真实世界的PIC。我们期待着与Tower和OpenLight一起支持共同的客户，以加快采用集成激光器的硅光子学。”

OpenLight CEO Thomas Mader博士表示：“迄今为止，还没有一个具有有源片上光学元件的开放硅光子学平台。我们正在研究集成激光器可以在多大程度上减少进入壁垒，并改变为各种光子集成电路应用设计的方式。”