LZH开发Spatial ALD系统，均匀涂覆复杂形状光学器件

凭借新开发的“Spatial ALD”沉积系统，德国汉诺威激光中心现在可以均匀地涂覆复杂形状的光学器件。创新系统实现了比以前更高的沉积速率。LZH表示，这种能力在汽车照明和 VR/AR领域的应用中很有吸引力。

ALD（原子层沉积）技术可以生产非常薄的高质量涂层。到目前为止，ALD工艺主要用于生产半导体工业中的薄功能层。LZH光学集成小组的科学家可以使用该方法比以前更快地生成均匀厚度的层系统，例如在强弯曲和结构化光学元件上。

基于等离子的Spatial ALD系统通过旋转运行，可以精确地镀膜复杂形状的光学元件

LZH表示，以前使用的方法例如电子束蒸发或离子束溅射，在这方面受到严重限制。Spatial ALD系统在生产用于光学的超薄涂层系统时实现了高沉积速率，并能够对复杂形状的表面进行均匀涂层。

由于该系统是基于等离子的，它可以在低于100摄氏度的低温下运行，使其特别适用于涂层温度敏感的聚合物光学元件，这些光学元件通常用于显示器。

高速沉积的旋转原理

“旋转”系统由ALD技术领域的知名企业芬兰公司Beneq与LZH合作开发。ALD工艺基于气态前体和基板表面之间的自限化学反应。

在目前常用的传统系统中，工艺反应一个接一个地进行，这需要对整个反应室进行耗时的气体交换。LZH的Spatial ALD系统有所不同，它的工艺循环在空间上是分开进行的。该系统有四个独立的工艺室，由压力和氮气隔开。每个工艺室中独立完成ALD反应步骤。

然后基板旋转进入下一个腔室。通过这种方式，科学家们实现了以前只有其他涂层工艺才能实现的沉积速率。LZH表示，这种方法特别具有经济性，同时实现了光学镀膜的高产量。开发团队在今年的Photonics West会议上展示了第一个研究成果。他们目前还在EUROSTARS合作项目INTEGRA中工作，使用Spatial ALD系统涂覆光学衍射光栅。